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Appel d'offres européen - Système de lithographie par faisceau d'électrons
Universiteit Twente · Procédure ouverte · 1 lots · 429052
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Mesure la présence, pas l'exactitude · les documents font foi
PérimètreConseilPoints d'attentionCritères d'aptitudeCritères d'attributionCalendrier
Type
Fournitures
38000000 · Instruments de laborat
Valeur estimée
€ 3,50M
estimée
Avant l'échéance
59d
14 août 2026 · 10:00
Knock-outs
n.d.
motifs d'exclusion
Attribution selon
Meilleur rapport qualité-prix
À évaluer manuellementconfiance faible
L'Universiteit Twente (MESA+ Institute) fait l'acquisition d'un système de lithographie par faisceau d'électrons de haute performance pour la recherche et l'utilisation industrielle. Le marché présente une valeur élevée de 3,5 millions € et porte sur une machine très spécialisée pour la création de motifs sur des substrats allant jusqu'à 200 mm. Compte tenu de la complexité technique et de la valeur, il s'agit d'une livraison spécialisée de grande envergure.
Fournitures · Procédure ouverte · Procédure européenne
Européen
CaractéristiquesCPV 38FournituresAppel d'offres UE
01Ce qui est demandé
L'Universiteit Twente (MESA+ Institute) fait l'acquisition d'un système de lithographie par faisceau d'électrons de haute performance pour la recherche et l'utilisation industrielle. Le marché présente une valeur élevée de 3,5 millions € et porte sur une machine très spécialisée pour la création de motifs sur des substrats allant jusqu'à 200 mm. Compte tenu de la complexité technique et de la valeur, il s'agit d'une livraison spécialisée de grande envergure.
The University of Twente is tendering to purchase an Electron Beam Lithography system.
1Appel d'offres européen - Système de lithographie par faisceau d'électrons3 500 000 €
02Motifs d'exclusion
Motifs d'exclusion — consultez le DUME
- Aucun motif d'exclusion spécifique n'a été extrait. Dans un appel d'offres européen, les motifs obligatoires et facultatifs des art. 2.86/2.87 de la loi néerlandaise sur les marchés publics s'appliquent presque toujours — consultez le Document unique de marché européen (DUME).
03Valeur en contexte
3 500 000 €
04Concurrents probables
#Soumissionnaire probableAdéquationGagnés
1Bruker Nederland B.V.SME8913×
2Agilent Technologies Netherlands B.V.SME8610×
3Waters Chromatography B.V.SME8412×
4Carl Zeiss B.V.SME8310×
5FEI Europe B.V.SME827×
6Oxford Instruments GmbHUnknown815×
05Documents de marché
Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14 juin 2026 · 236 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14 juin 2026 · 101 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14 juin 2026 · 101 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14 juin 2026 · 114 KB
Beschrijving.pdfpdf14 juin 2026 · 27 KB
Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14 juin 2026 · 236 KB
Grounds for Exclusion and Eligibility Requirements.pdfpdf14 juin 2026 · 29 KB
Purchasing Conditions.pdfpdf14 juin 2026 · 22 KB
Descriptive Document EBL system.pdfpdf14 juin 2026 · 447 KB
Inschrijvingsfase.pdfpdf14 juin 2026 · 27 KB
Draft Agreement.pdfpdf14 juin 2026 · 22 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14 juin 2026 · 114 KB
06Thèmes juridiques susceptibles d'être pertinents ici
Advies 755> De kern van de klacht is dat aanbesteder onvoldoende heeft gezorgd voor een gelijk speelveld, onder meer door: (1) het hanteren Advies 797> De klacht van een brancheorganisatie in groenonderhoud en -voorzieningen gaat over een Europese openbare aanbesteding van een RAAdvies 824> Dit advies gaat over een opdracht voor de levering en het beheer van een participatieplatform die meervoudig onderhands is aanbePlainte fondéeAdvies 791> Dit advies betreft het prijscriterium in een aanbesteding van bedrijfskleding, schoeisel en persoonlijke beschermingsmiddelen. DPlainte fondéeAdvies 774> Dit advies gaat over een opdracht voor het gedeeltelijk vervangen, aanpassen en in beheer en onderhoud nemen van een cameratoezi
07Questions fréquentes
Quelle est la mission technique principale de cet appel d'offres ?
Le marché concerne la livraison d'un système de lithographie par faisceau d'électrons capable de définir des motifs dans des résines sensibles aux électrons avec une haute résolution et une vitesse élevée.
À quelles spécifications le système livré doit-il répondre concernant les substrats ?
Le système doit être compatible avec une large gamme d'applications et de substrats ayant un diamètre allant jusqu'à 200 mm.
À quels groupes cibles le système de lithographie par faisceau d'électrons est-il destiné ?
Le système sera utilisé par un groupe diversifié d'utilisateurs, comprenant des chercheurs académiques, des étudiants ainsi que des ingénieurs industriels issus de la photonique et de la (nano)-électronique.
Quels sont les principaux critères de sélection pour le fournisseur ?
Le fournisseur doit avoir la capacité de livrer des systèmes compatibles avec une large gamme d'applications et de substrats.
Compilé automatiquement à partir des données et documents officiels de l'appel d'offres.
08Valeur estimée par rapport au marché
p25
€ 300K
€ 300K
médiane
€ 515K
€ 515K
p75
€ 1,7 mln
€ 1,7 mln
€ 3,5 mln
Gegunde waarden in CPV 38 · leveringen n=331