OffenLieferungenEuropaweitOffenes Verfahren

Europäische Ausschreibung Electron Beam Lithography System

Universiteit Twente · Offenes Verfahren · 1 Lose · 429052
Art
Lieferungen
38000000 · Laborgeräte, optische
Geschätzter Wert
€ 3,50M
geschätzt
Bis Frist
59d
14. Aug. 2026 · 10:00
Knock-outs
k.A.
Ausschlussgründe
Zuschlag nach
Bestes Preis-Leistungs-Verhältnis
Manuell prüfenKonfidenz niedrig

Die Universiteit Twente (MESA+ Institute) beschafft ein hochwertiges Electron Beam Lithography System für die Forschung und die industrielle Nutzung. Der Auftrag hat einen hohen Wert von 3,5 Mio. € und konzentriert sich auf eine hochspezialisierte Maschine für Muster auf Substraten bis zu 200 mm. Aufgrund der technischen Komplexität und des Wertes handelt es sich um eine große, spezialisierte Lieferung.

Lieferungen · Offenes Verfahren · Europäisches Verfahren

Europäisch
Auftraggeber
Universiteit Twente
Europees
Auftragsart
Lieferungen
Offenes Verfahren
Geschätzter Wert
3.500.000 €
geschätzter Wert
Angebotsfrist
14. August 2026
10:00 Uhr
Umfang
Europaweit
Europäisches Verfahren
Lose
1
1 Lose
CPV-Hauptcode
Laborgeräte, optische und Präzisionsinstrumente (ausgenommen Brillen)
Standort
NL (NUTS: NL213), Europees
MerkmaleCPV 38LieferungenEU-Ausschreibung

01Was wird gefordert

Die Universiteit Twente (MESA+ Institute) beschafft ein hochwertiges Electron Beam Lithography System für die Forschung und die industrielle Nutzung. Der Auftrag hat einen hohen Wert von 3,5 Mio. € und konzentriert sich auf eine hochspezialisierte Maschine für Muster auf Substraten bis zu 200 mm. Aufgrund der technischen Komplexität und des Wertes handelt es sich um eine große, spezialisierte Lieferung.

The University of Twente is tendering to purchase an Electron Beam Lithography system. The MESA+ Institute of the University of Twente will invest in a new Electron Beam system (e-beam system). A system, suitable for defining patterns in electron sensitive resists, at high resolution and high speed, compatible with a wide range of applications and substrate types up to 200mm in diameter. The system will be used by a wide range of users, i.e. academic researchers and students as well as industrial engineers with different backgrounds (photonics, (nano)-electronics etc.) and different levels of

38000000€ 3,50MLieferungen
1Europäische Ausschreibung Electron Beam Lithography System3.500.000 €

02Ausschlussgründe

Ausschlussgründe — siehe EEE
  • Es wurden keine spezifischen Ausschlussgründe extrahiert. Bei einer europaweiten Ausschreibung gelten fast immer die zwingenden und fakultativen Gründe nach Art. 2.86/2.87 des niederländischen Vergabegesetzes — prüfen Sie die Einheitliche Europäische Eigenerklärung (EEE).

03Wert im Kontext

3.500.000 €

04Wahrscheinliche Wettbewerber

#Wahrscheinlicher BieterEignungZuschläge
1Bruker Nederland B.V.SME8913×
2Agilent Technologies Netherlands B.V.SME8610×
3Waters Chromatography B.V.SME8412×
4Carl Zeiss B.V.SME8310×
5FEI Europe B.V.SME82
6Oxford Instruments GmbHUnknown81

05Vergabeunterlagen

Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14. Juni 2026 · 236 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14. Juni 2026 · 101 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14. Juni 2026 · 101 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14. Juni 2026 · 114 KB
Beschrijving.pdfpdf14. Juni 2026 · 27 KB
Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14. Juni 2026 · 236 KB
Grounds for Exclusion and Eligibility Requirements.pdfpdf14. Juni 2026 · 29 KB
Purchasing Conditions.pdfpdf14. Juni 2026 · 22 KB
Descriptive Document EBL system.pdfpdf14. Juni 2026 · 447 KB
Inschrijvingsfase.pdfpdf14. Juni 2026 · 27 KB
Draft Agreement.pdfpdf14. Juni 2026 · 22 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14. Juni 2026 · 114 KB

06Rechtliche Themen, die hier relevant sein können

07Häufig gestellte Fragen

Was ist der technische Kernauftrag dieser Ausschreibung?
Der Auftrag umfasst die Lieferung eines Electron Beam Lithography Systems, das geeignet ist, Muster in elektronenempfindlichen Resists mit hoher Auflösung und Geschwindigkeit zu definieren.
Welchen Spezifikationen muss das gelieferte System hinsichtlich der Substrate entsprechen?
Das System muss mit einer breiten Palette von Anwendungen und Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm kompatibel sein.
Für welche Zielgruppen ist das Electron Beam System bestimmt?
Das System wird von einer vielfältigen Gruppe von Nutzern verwendet, darunter akademische Forscher, Studenten und industrielle Ingenieure aus der Photonik und (Nano-)Elektronik.
Was sind die wichtigsten Eignungskriterien für den Lieferanten?
Der Lieferant muss die Kapazität haben, Systeme zu liefern, die mit einer breiten Palette von Anwendungen und Substraten kompatibel sind.

Automatisch aus den offiziellen Ausschreibungsdaten und Dokumenten zusammengestellt.

08Geschätzter Wert im Marktvergleich

p25
€ 300K
Median
€ 515K
p75
€ 1,7 mln
€ 3,5 mln

Gegunde waarden in CPV 38 · leveringen n=331